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          CRF plasma 等离子清洗机

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          深圳市诚峰智造诚峰crf真空等离子清洗机的清洗工艺和产品特性

          深圳市诚峰智造诚峰crf真空等离子清洗机的清洗工艺和产品特性:
          1、被清洗过的工件进入真空型并加以固定,启动运转装置,开始放气,使真空室真空程度达到十帕左古的标准真空度。通常的放气时间只需几分钟;
          2、将等离子清洗气体引入真空室,并保持气室压力稳定。按清洁材料不同,可以分别采用氧、氩、氢、氮、氟等气体;
          3、在真空室中的电极与接地装置间施加高频电压,使气体被击穿,并通过辉光放电发生等离子化,形成等离子体。将处理工件完全包覆在真空室中产生的等离子体,开始清洗操作,一般的清洗环节会持续数十秒至数十分钟;
          4、清洗结束后,切断电源,用真空泵吸气汽化污垢。

          真空等离子清洗机

          诚峰crf真空等离子清洗机产品特性:
          1.环保技术:等离子体法为气-固相干式反应,不需消耗水资源,不需添加化学试剂,对环境无污染;
          2.适用性:处理时不分被处理的对象的基材类型,例如金属、半导体、氧化物和大部分聚合物可以很好地处理;
          3.温度低:接近常温,尤其适合聚合物材料,比电晕、火焰法保存时间长,表面张力高;
          4.功能强:只涉及聚合物材料的浅表面(十-1000A),可以赋予它一种或多种功能,同时保持材料本身的特性;
          5.成本低:设备简单,操作维护容易,可连续运行,往往用几瓶气就能替代几千公斤的清洗液,所以清洗效果比湿法清洗要小得多;
          6.全过程控制工艺:通过PLC设定所有参数,数据记录,做好质量控制;
          7.工件的几何尺寸无限:大的或小的、简单的或复杂的,都可以处理的部件或纺织品。

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